前面说过,半导体中加进了杂质,电阻率就大大降低。这是因为加进杂质后,空穴和电子的数目会大大增加。例如,在锗晶休中掺入很少一点三价元素铟,由于铟的价电子只有三个,渗入锗晶体后,它的三个价电子分别和相邻的三个锗原子的价电子组成共价键,而对相邻的第四个锗原子,它没有电于拿出来和这个锗原子“共有”了,这就留下了一个空穴(见图1一3(c))。因为掺入了少量的杂质铟,就会出现很多空穴;这是因为即使是少量的,里面含有的原子数目却不少。杂质半导体中空穴和电子数目不相等,在电场作用下,空穴导电是主要的,所以叫空穴型半导体或者说是P型半导体。换句话说,P型或空穴型半导体内是有剩余空穴的,掺入的杂质提供了剩余空穴。在P型半导体中,空穴是多数,所以称空穴为多数载流子;电子数目少,就叫少数裁流子。渗入的杂质能产生空穴接受电子,我们叫这种杂质为受主杂质。
如果把五价元素砷掺入锗晶体中,砷原子中有5个价电于,它和四个锗原子的价电子组成共价键后,留下一个剩余电子,这个剩余电子就在晶体中到处游荡,在外电场作用下形成定向电子流。掺入少量的砷杂质就会产生大量的剩余电子,所以称这种半导体为电子型半导体或N型半导体。在这种半导体中有剩余电子,这时电子是多数载流子,而空穴是少数载流子。因为砷是施给剩余电子的杂质,所以叫做施主杂质。
如果没有外电场的作用,不论N型或P型半导体,它们的载流子运动是无规则的,因此,不会形成电流。
把一块P型半导休和N型半导体紧密联接在一起时(实际上只能用化学方法将两个原来独立的锗片合在一起).就会发现一个奇怪的现象,即在它们的两端加上适当的电压时,会产生单向导电观象。因为这时在它们的交界面上形成了一个所谓P—N结的结构,单向导电现象就发生在这一薄薄的P—N结中。P—N结是晶体管的基础,它是由扩散形成的。
我们知道,P型半导体内空穴是多数载流子,即空穴的浓度大;而N型半导体内电子是多数载流予,电子的浓度大。二者接触之后,由于在P型区和N型区内电子浓度不同,N型区的电子多,就向P型区扩散,扩散的结果如图1—4(b)所示。N型区薄层I中部分电子扩散到P型区去,薄层I便因失去电于而带正电。另一方面,P型区的空穴多,也会向空穴浓度小的N型区扩散,结果一部分空穴从薄层I向P(型区扩散,使薄层Ⅱ带负电。
电于和空穴的扩散是同时进行的,总的结果,P型区薄层Ⅱ流走了空灾,流进了电子,所以带负电,而N型区的薄层I流走了电子,流进了空穴,因而带正电,而且随着扩散现象的继续进行,薄层逐渐变厚,所带的电量也逐渐增加。不过,这种扩散现象不会无休止的进行下去;当扩散进行到一定程度后,薄层Ⅱ带了很多负电,从N型区向P型区扩散的电子总数因电子受到它的排斥不再继续增加;同样道理,从P型区向N型区扩散的空灾总数也不再增加。于是扩散似乎不再继续,而达到所谓“动态平衡状态”。这时P—N结也就形成了。
所谓P—N结,就是指薄层I和Ⅱ所构成的带电结构。因为它能阻止电子和空穴的继续扩散,所以也叫阻挡层。它们之间的电位差一般称势垒或位垒。我们用图来阐明P—N结的单向导电性能。
依照图示方法,将P型区接电池正极,N型区接负极。向右调动电位器,使加到P—N结构端的电压逐颓增高,就会发现:当电压表读数增高时,电流表的读数也随之增大。此时,P—N结的电阻很小,这种接法叫正向联结。
若反过来,把P型区接电池负极,而N型区接正极,这时我们会发现:把电压增高到几十伏,电流的指示只有几个或几十个微安,此时P—N结的电阻很大,反向电流很快就达到饱和不再增加了。这说明电流只能沿着一个方向流过P—N结,这个现象就叫做单向导电。
单向导电现象可以这样来解释;因为在P型区接电池正极而N型区接负极时,外加电压的方向刚好和P—N结势垒电压的方向相反,使薄层Ⅱ带的负电量和薄层I带的正电量减少,因此削弱了P—N结的势垒,于是在正电压的作用下,电子和空穴的扩散又可进行,N型区的电子不断跑到P型区,P型区的空穴也不断跑到N型区,正向电流也就产生了。而且,正向电压加得越高,P—N结势垒削弱得越厉害,扩散也就越容易进行,正向电流也就越大。
当P—N结和电池反向连接时,外加电压起着增强P—N结势垒的作用,使薄层Ⅱ带的负电荷和薄层I带的正电荷增加,扩散更无法进行。这时只有P型区的少数教流子一电子和N型区的少数我流子一空穴,受外加电压作用形成微弱的反向电流。而少数栽流子的数目不多,所以在反向电压只有零点几伏时,反向电流就达到饱和了。
P—N结还有一个十分重耍的特性,即所谓反向击穿电压。当所加反向电压大到一定数值时,P—N结电阻会突然变得很小,反向电流会骤然增大,而且是无限地增大。这种现象叫P—N结的反向击穿。开始击穿时的电压数值叫反向击穿电压。它直接限制了P—N结用做整流和检波时的工作电压。
总之,一个简单的P—N结具有单向导电的特性,半导体收音机正是利用这一特性来进行整流和检波的。半导体二极管就是根据这一原理制成的。